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微电子制造科学原理与工程技术(第二版)(英文版)

作　　者：谢金明 著，谭博等改编
丛　　书：
出 版 社：电子工业出版社
出版时间：2003年04月
字　　数：0
版　　次：1
页　　数：603
印刷时间：2003/04/01
开　　本：
印　　次：
纸　　张：胶版纸
I S B N ：9787505386266
包　　装：平装


内容简介
本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术覆盖了集成电路制造所涉及的怕有基本单选工艺，包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入扩散、氧化、蒸发、气相外延生长、溅射和化学气相淀积等对每一种单项工艺，不仅工艺技术加快速热处理、 下一代光刻、分子束外延和金属有机物化学气相淀积等。在此基础上本书讨论了如何将这些单项工艺集成为各种常见的集成电路工艺技术，如CMOS技术、双极型技术和砷化镓技术，还介绍了微电子制造的新领域即微机械电子系统及其工艺技术。
本书可作为高等学校微电子专业本科生和研究生相应课程的教科书或参考书，也可供与集成电路制造工艺技术有关的专业技术人员学习参考。

目录

第1篇 综述与题材
　第1章 微电子制造引论
　第2章 半导体衬底
第2篇 单项工艺I:热处理和离子注入
　第3章 扩散
　第4章 热氧化
　第5章 离子注入
　第6章 快速热处理
第3篇 单项工艺2:图形转移
　第7章 光学光刻
　第8章 光刻胶
　第9章 非光学光刻技术
　第10章 真空科学和等离子体
　第11章 刻蚀
第4篇 单项工艺3:薄膜
　第12章 物理淀积:蒸发和溅射
　第13章 化学气相淀积
　第14章 外延生长
第5篇 工 艺 集 成
　第15章 器件隔离、接触和金属化
　第16章 CMOS技术
　第17章 GaAs工艺技术
　第18章 硅双极型工艺技术
　第19章 微机电系统
　第20章 集成电路制造
附录A 缩写与通用符号
附录B 部分半导体材料性质
附录C 物理常数
附录D 单位转换因子
附录E 误差函数的一些性质
附录F F数
附录G SUPREM指令

微电子制造科学原理与工程技术(英文版).part06
共21个部分

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[ 本帖最后由 drjiachen 于 2008-10-20 22:39 编辑 ]

微电子制造科学原理与工程技术(英文版).part04
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不会又是超星快速版格式转化的吧    如果是的话拜托不要在发了  根本无法看

[ 本帖最后由 drjiachen 于 2008-10-26 19:39 编辑 ]

不能这么说的，即使是超星转过来的，放大点看还是可以的，如果想要好好研读，最好还是买一本

下载看看，学习学习。
谢谢楼主分享!

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确实是超星转的，嫌不清楚的话自己花钱买去。
没人要求必须下载。

感谢楼主分享，学习中。。。。。。。。。

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haoshu  好书

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好东西 ！！！！！！！！谢谢楼主！

好书不厌百回顶!!!!!!!!!!!!

十分感谢楼主的好书

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好书，谢谢!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!

好书！经典之作！谢谢斑竹的奉献和慷慨。

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谢谢谢谢往往往往往往往往往往

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楼主的好书!

Thank you very much

Thanks for sharing!

好东西哦，就缺这工艺书籍的

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谢谢 我买了中文的哈

谢谢楼主分享

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太好了，我找了很久了

很好的书啊,好好学习

谢谢楼主了

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谢谢分享！！！！！！！！！！！

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太多了哦、、、、、、、、

好资料

有老大虾.

好东西，顶起来

谢谢

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